X射線熒光光譜儀
X射線熒光光譜儀(X-ray Fluorescence Spectrometer,簡稱:XRF光譜儀),是一種快速的、非破壞式的物質測量方法。X射線熒光(X-ray fluorescence,XRF)是用高能量X射線或伽瑪射線撞擊材料時激發出的次級X射線。這種現象被廣泛用於元素分析和化學分析,特別是在金屬,玻璃,陶瓷和建材的調查和研究,地球化學,法醫學,考古學和藝術品[1],例如油畫[2]和壁畫。
使用型態
[編輯]XRF 用 X光或其他激發源照射待分析樣品,樣品中的元素之內層電子被擊出後,造成核外電子的躍遷,在被激發的電子返回基態的時候,會放射出特徵 X 光;不同的元素會放射出各自的特徵 X 光,具有不同的能量或波長特性。檢測器(Detector)接受這些 X 光,儀器軟件系統將其轉為對應的信號。這一現象廣泛用於元素分析和化學分析,特別是在研究金屬,玻璃,陶瓷和建築材料,以及在地球化學研究、法醫學、電子產品進料品管(EU RoHS)和考古學等領域,在某種程度上與原子吸收光譜儀互補,減少工廠附設的品管實驗室之分析人力投入。
X射線熒光的物理原理
[編輯]當材料暴露在短波長 X 光檢查,或伽瑪射線,其組成原子可能發生電離,如果原子是暴露於輻射與能源大於它的電離勢,足以驅逐內層軌道的電子,然而這使原子的電子結構不穩定,在外軌道的電子會「回補」進入低軌道,以填補遺留下來的洞。在「回補」的過程會釋出多餘的能源,光子能量是等於兩個軌道的能量差異的。因此,物質放射出的輻射,這是原子的能量特性。
X射線熒光光譜法在化學分析
[編輯]主要使用 X 射線束激發熒光輻射,第一次是在 1928 年由格洛克爾和施雷伯提出的[3]。到了現在,該方法作為非破壞性分析技術,並作為過程控制的工具,廣泛應用於採掘和加工工業。原則上,最輕的元素,可分析出鈹(z = 4),但由於儀器的局限性和輕元素的低 X 射線產量,往往難以量化,所以針對能量分散式的X射線熒光光譜儀,可以分析從輕元素的鈉(z = 11)到鈾,而波長分散式則為從輕元素的硼到鈾。
參閱
[編輯]參考資料
[編輯]- ^ De Viguerie L, Sole VA, Walter P, Multilayers quantitative X-ray fluorescence analysis applied to easel paintings (頁面存檔備份,存於互聯網檔案館), Anal Bioanal Chem. 2009 Dec; 395(7): 2015-20. doi: 10.1007/s00216-009-2997-0
- ^ X-Ray Fluorescence at ColourLex. [2016-09-25]. (原始內容存檔於2015-12-22).
- ^ Glocker, R., and Schreiber, H., Annalen der Physik., 85, (1928), p. 1089